Papier i tektura : pomiar połysku. Cz. 2, Połysk pod kątem 75 [stopni] z zastosowaniem wiązki równoległej, metodą DIN.
Papier i tektura : pomiar połysku. Cz. 2, Połysk pod kątem 75 [stopni] z zastosowaniem wiązki równoległej, metodą DIN.
- Zatwierdzono: 2004.12.14
- Warszawa : Polski Komitet Normalizacyjny
PN-EN ISO 8254-2:2002
Wprowadza: ISO 8254-2:2003 Wprowadza: EN ISO 8254-2:2003 Zastępuje: PN-EN ISO 8254-2:2003 (U)
Określono fotometryczną metodę badania oceny wizualnego odczucia połysku, gdy wartość reflektometryczna jest mierzona pod kątem 75 [stopni]. Metodę tą stosuje się do płaskich powierzchni papieru i tektury o poziomie połysku poniżej 65 mierzonym zgodnie z niniejszą normą europejską. Zaleca się, aby była preferowaną metodą dla papieru i tektury o poziomie połysku poniżej 20 mierzonego zgodnie z niniejszą normą europejską. Materiały zawierające wybielacze optyczne mogą być badane.
papier tektura połysk reflektometr wartość reflektometryczna
PN-EN ISO 8254-2:2002
Wprowadza: ISO 8254-2:2003 Wprowadza: EN ISO 8254-2:2003 Zastępuje: PN-EN ISO 8254-2:2003 (U)
Określono fotometryczną metodę badania oceny wizualnego odczucia połysku, gdy wartość reflektometryczna jest mierzona pod kątem 75 [stopni]. Metodę tą stosuje się do płaskich powierzchni papieru i tektury o poziomie połysku poniżej 65 mierzonym zgodnie z niniejszą normą europejską. Zaleca się, aby była preferowaną metodą dla papieru i tektury o poziomie połysku poniżej 20 mierzonego zgodnie z niniejszą normą europejską. Materiały zawierające wybielacze optyczne mogą być badane.
papier tektura połysk reflektometr wartość reflektometryczna